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      技術創新 Innovation
      NAURA創新
      ??北方華創LPCVD設備不僅實現超薄Oxide和Poly二合一工藝制備的能力;而且通過高效的成膜速率和精準控溫技術縮短了工藝時間;通過該設備制備的薄膜具有優異的致密性和均勻性。
      了解更多
      • 08.03 2017
          PECVD是一種低溫淀積薄膜的設備,在晶硅太陽電池的實際生產中具有十分重要且廣泛的應用。在所有可選擇的設備類型中,管式PECVD受到眾多廠商的青睞。
      • 07.20 2017
          硅外延裝備控制軟件是硅外延片生產制造的依托,軟件的不斷迭代更新,是提升軟件質量、提高設備穩定性和產能的重要途徑。
      • 07.12 2017
          NAUAR 低壓擴散爐制造技術不斷進步和完善,自2016年來,晶體硅太陽能電池行業擴產和技術升級的太陽能電池制造商幾乎都選擇產能密度更高的低壓擴散爐作為首選的摻雜設備。   NAURA 低壓擴散爐已經遍布在中國的江蘇、浙江、四川、安徽、山東、陜西、臺灣,以及東南亞的馬來西亞、泰國、越南甚至埃及的光伏電池制造工廠內高效生產。
      • 06.15 2017
          等離子體刻蝕在集成電路制造中已有40余年的發展歷程??涛g采用的等離子體源常見的有容性耦合等離子體、感應耦合等離子體和微波ECR 等離子體等。
      • 05.19 2017
          硅刻蝕設備是北方華創公司研發的干法刻蝕設備,具有硅片傳輸自動化程度高、工藝調節手段多樣、設備可靠性高、機臺占地面積小、設備產能大、維護簡單、機臺成本低等特點。
      • 04.26 2017
          隨著裝備的技術水平的不斷提高,NAURA高產能管式PECVD必將成為晶硅電池生產線的絕對主流產品。 為解決世界能源和環境問題發揮重要作用。
      • 03.04 2017
          本文介紹了脈沖等離子體技術在干法刻蝕領域的應用背景,從半導體制程工藝需求層面講述了納米量級的刻蝕制程對等離子體參數的需求。
      • 03.04 2017
          等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)技術是借助于輝光放電等離子體使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應,從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術。
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